大塚电子 OTSUKA 厚度监控器 FE-300V
2019-08-10 12:41:59
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薄膜から厚膜の幅広い膜厚に対応 反射スペクトルを用いた膜厚解析 コンパクト・低価格でありながらも非接触・非破壊で高精度測定を実現 条件設定や測定操作が簡単！どなたでも手軽に膜厚測定が可能 非線形最小二乗法、最適化法、PV法、FFT解析法などによって幅広い種類の膜厚測定が可能 非線形最小二乗法の膜厚解析アルゴリズムにより、光学定数解析（n：屈折率、k：消衰計数）が可能
測定項目
絶対反射率測定 膜厚解析解析（10層） 光学定数解析（n：屈折率、k：消衰計数）
用 途
機能性フィルム、プラスチック
透明導電膜（ITO、銀ナノワイヤー）、位相差フィルム、偏光フィルム、ARフィルム、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、接着剤、粘着剤、プロテクトフィルム、ハードコート、耐指紋剤など 半導体
化合物半導体、Si、酸化膜、窒化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、 SOI、Sapphire、など 表面処理
DLCコート、防錆剤、防曇剤、など 光学材料
フィルタ、ARコート、など FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機膜、封止剤）、など その他
HDD、磁気テープ、建材、など 測定原理
大塚電子では、光干渉法と自社製高精度分光光度計により、非接触・非破壊かつ高速高精度な膜厚測定を可能にしています。光干渉法は、図2のような分光光度計を利用した光学系によって得られた反射率を用いて光学的膜厚を求める方法です。図1のように金属基板上にコーティングされた膜を例にとると、対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過した光が基板（金属）や膜界面で反射します（R2）。このときの光路差による位相のずれによって起こる光干渉現象を測定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法を光干渉法と呼びます。解析手法は、ピークバレイ法、周波数解析法、非線形最小二乗法、最適化法の4種類があります。
仕 様
型式 FE-300V FE-300UV FE-300NIR *1 全体 標準測定タイプ 薄膜測定タイプ 厚膜測定タイプ 厚膜測定タイプ
（高分解能） サンプルサイズ 最大8インチウェハ（厚さ5mm） 測定膜厚範囲
(nd) 100nm～40μm 10nm～20μm 3μm～300μm 15μm～1.5mm 測定波長範囲 450nm～780nm 300nm～800nm 900nm～1600nm 1470nm～1600nm 膜厚精度 ±0.2nm以内 *2 ±0.2nm以内 *2 - - 繰り返し精度 0.1nm以内 *3 0.1nm以内 *3 - - 測定時間 0.1s～10s以内 スポット径 約φ3mm 光源 ハロゲン 重水素とハロゲンの混合 ハロゲン ハロゲン インターフェイス USB 寸法、重量 <280（W)×570（D)×350（H）mm、約24kg ソフトウェア 標準 ピークバレイ解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乗法解析 オプション 材料評価ソフトウェア、ポスト解析ソフトウェア、膜モデル解析、リファレンスプレート
*1 詳細はお問合せください
*2 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の膜厚保証書記載の測定保証値範囲に対して
*3 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の同一ポイント繰り返し測定時における拡張不確かさ（包括係数 2.1）
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